ICP өңдеу процесіне арналған вафли ұстағышы

Semicorex компаниясының ICP өңдеу процесіне арналған вафли ұстағышы вафлиді өңдеу және жұқа қабықшаны тұндыру процестері үшін тамаша таңдау болып табылады. Біздің өнім дәйекті және сенімді нәтижелер алу үшін жоғары жылу және коррозияға төзімділігімен, тіпті термиялық біркелкілігімен және ламинарлы газ ағынының оңтайлы үлгілерімен мақтана алады.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Вафельді өңдеу және жұқа қабықпен тұндыру процестерінде сенімді және дәйекті өнімділік үшін ICP өңдеу процесіне арналған Semicorex вафли ұстағышын таңдаңыз. Біздің өнім қышқылға, сілтіге, тұзға және органикалық реагенттерге жоғары температурада тотығуға төзімділікті, жоғары тазалықты және коррозияға төзімділікті ұсынады.
ICP өңдеу процесіне арналған вафли ұстағышымыз жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз ететін ламинарлы газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізуге арналған. Бұл вафли чипіндегі жоғары сапалы эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ете отырып, кез келген ластануды немесе қоспалардың диффузиясын болдырмауға көмектеседі.
ICP өңдеу процесіне арналған вафли ұстағышымыз туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

ICP өңдеу процесіне арналған вафли ұстағышының параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері
Кристалл құрылымы	FCC β фазасы
Тығыздығы	г/см³	3.21
Қаттылық	Викерс қаттылығы	2500
Астық мөлшері	мкм	2~10
Химиялық тазалық	%	99.99995
Жылу сыйымдылығы	Дж кг-1 К-1	640
Сублимация температурасы	℃	2700
Фелексальды күш	МПа (RT 4-нүкте)	415
Жас модулі	Gpa (4pt иілу, 1300℃)	430
Термиялық кеңею (C.T.E)	10-6К-1	4.5
Жылу өткізгіштік	(Вт/мК)	300