Кремний карбиді ICP сызғыш тасушы

Офорттау процестеріне сенімді вафельді тасымалдаушыны іздеп жүрсіз бе? Semicorex кремний карбиді ICP сызу тасымалдаушысынан басқаны іздемеңіз. Біздің өнім төзімділік пен ұзақ мерзімділікті қамтамасыз ететін жоғары температура мен қатал химиялық тазалауға төтеп беру үшін жасалған. Таза және тегіс беті бар біздің тасымалдауышымыз таза вафлилерді өңдеуге өте ыңғайлы.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Semicorex кремний карбиді ICP сызу тасығышының көмегімен ламинарлы газ ағынының оңтайлы үлгілерін және жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз етіңіз. Біздің өнім жұқа қабықшаны тұндыру және пластинаны өңдеу процестері үшін ең жақсы нәтижелерге қол жеткізуге арналған. Жылу және коррозияға төзімділігі жоғары болғандықтан, біздің тасымалдауышымыз күрделі қолданбалар үшін тамаша таңдау болып табылады.

Semicorex-те біз өз тұтынушыларымызға жоғары сапалы, үнемді өнімдерді ұсынуға назар аударамыз. Біздің Silicon Carbide ICP Etch Carrier баға артықшылығына ие және көптеген еуропалық және американдық нарықтарға экспортталады. Біз тұрақты сапалы өнімдер мен ерекше тұтынушыларға қызмет көрсететін ұзақ мерзімді серіктес болуды мақсат етеміз.

Кремний карбиді ICP сызу тасымалдағышы туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

Кремний карбиді ICP сызу тасымалдаушысының параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері
Кристалл құрылымы	FCC Î² фазасы
Тығыздығы	г/см³	3.21
Қаттылық	Викерс қаттылығы	2500
Астық мөлшері	Î¼м	2~10
Химиялық тазалық	%	99.99995
Жылу сыйымдылығы	Дж·кг-1 ·К-1	640
Сублимация температурасы	℃	2700
Жіңішке күш	МПа (RT 4-нүкте)	415
Young's модулі	Gpa (4pt иілісі, 1300â)	430
Термиялық кеңею (C.T.E)	10-6К-1	4.5
Жылу өткізгіштік	(Вт/мК)	300