ICP плазмалық сызу тақтасы

Semicorex компаниясының ICP плазмалық өңдеу тақтасы пластинаны өңдеу және жұқа қабықшаны тұндыру процестері үшін жоғары жылу және коррозияға төзімділікті қамтамасыз етеді. Біздің өнім төзімділік пен ұзақ мерзімділікті қамтамасыз ететін жоғары температура мен қатал химиялық тазалауға төтеп беру үшін жасалған. Таза және тегіс беті бар біздің тасымалдауышымыз таза вафлилерді өңдеуге өте ыңғайлы.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Жұқа қабықшаны тұндыру және пластинамен жұмыс істеу туралы айтатын болсақ, Semicorex компаниясының ICP Plasma Etching Plate қызметіне сеніңіз. Біздің өнім жоғары жылу және коррозияға төзімділікті, тіпті термиялық біркелкілікті және ламинарлы газ ағынының оңтайлы үлгілерін ұсынады. Таза және тегіс беті бар біздің тасымалдауышымыз таза вафлилерді өңдеуге өте ыңғайлы.

Біздің ICP плазмалық қию тақтасы жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз ететін ең жақсы ламинарлы газ ағынының үлгісіне қол жеткізуге арналған. Бұл вафли чипіндегі жоғары сапалы эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ете отырып, кез келген ластануды немесе қоспалардың диффузиясын болдырмауға көмектеседі.

ICP Plasma Eching Plate туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

ICP плазмалық ою пластинасының параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері
Кристалл құрылымы	FCC β фазасы
Тығыздығы	г/см³	3.21
Қаттылық	Викерс қаттылығы	2500
Астық мөлшері	мкм	2~10
Химиялық тазалық	%	99.99995
Жылу сыйымдылығы	Дж кг-1 К-1	640
Сублимация температурасы	℃	2700
Фелексальды күш	МПа (RT 4-нүкте)	415
Жас модулі	Gpa (4pt иілу, 1300℃)	430
Термиялық кеңею (C.T.E)	10-6К-1	4.5
Жылу өткізгіштік	(Вт/мК)	300