ICP плазмалық сызу тақтасы

Жұқа қабықшаны тұндыру және пластинамен жұмыс істеу туралы айтатын болсақ, Semicorex компаниясының ICP Plasma Etching Plate қызметіне сеніңіз. Біздің өнім жоғары жылу және коррозияға төзімділікті, тіпті термиялық біркелкілікті және ламинарлы газ ағынының оңтайлы үлгілерін ұсынады. Таза және тегіс беті бар біздің тасымалдауышымыз таза вафлилерді өңдеуге өте ыңғайлы.

Біздің ICP плазмалық қию тақтасы жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз ететін ең жақсы ламинарлы газ ағынының үлгісіне қол жеткізуге арналған. Бұл вафли чипіндегі жоғары сапалы эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ете отырып, кез келген ластануды немесе қоспалардың диффузиясын болдырмауға көмектеседі.

ICP Plasma Eching Plate туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

ICP плазмалық сызба тақтасының параметрлері

ICP плазмалық сызу пластинасының ерекшеліктері

- Қабыршақтануға жол бермеңіз және барлық бетінде жабын болуын қамтамасыз етіңіз

Жоғары температурадағы тотығуға төзімділігі: 1600°C дейін жоғары температурада тұрақты

Жоғары тазалық: жоғары температурада хлорлау жағдайында CVD химиялық бу тұндыру арқылы жасалған.

Коррозияға төзімділік: жоғары қаттылық, тығыз беті және ұсақ бөлшектер.

Коррозияға төзімділік: қышқыл, сілті, тұз және органикалық реагенттер.

- Ламинарлық газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізіңіз

- Жылу профилінің біркелкілігіне кепілдік

- Кез келген ластануды немесе қоспалардың таралуын болдырмаңыз