Үй > Өнімдер > Кремний карбидімен қапталған > ICP Эттинг тасымалдаушысы > PSS процесіне арналған ICP плазмалық сызу жүйесі

Өнімдер

PSS процесіне арналған ICP плазмалық сызу жүйесі

PSS процесіне арналған ICP плазмалық сызу жүйесі

Жоғары сапалы эпитаксия және MOCVD процестері үшін PSS процесіне арналған Semicorex компаниясының ICP плазмалық сызу жүйесін таңдаңыз. Біздің өнім жоғары жылу мен коррозияға төзімділікті ұсына отырып, осы процестер үшін арнайы жасалған. Таза және тегіс беті бар біздің тасымалдауышымыз таза вафлилерді өңдеуге өте ыңғайлы.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Semicorex компаниясының PSS процесіне арналған ICP плазмалық өңдеу жүйесі пластинаны өңдеу және жұқа қабықпен тұндыру процестері үшін тамаша жылу мен коррозияға төзімділікті қамтамасыз етеді. Біздің тамаша SiC кристалды жабынымыз таза және тегіс бетті ұсынады, бұл таза пластиналарды оңтайлы өңдеуді қамтамасыз етеді.

Semicorex-те біз өз тұтынушыларымызға жоғары сапалы, үнемді өнімдерді ұсынуға назар аударамыз. Біздің PSS процесіне арналған ICP плазмалық ою жүйесі бағалық артықшылыққа ие және көптеген еуропалық және американдық нарықтарға экспортталады. Біз тұрақты сапалы өнімдер мен ерекше тұтынушыларға қызмет көрсететін ұзақ мерзімді серіктес болуды мақсат етеміз.

PSS процесіне арналған ICP плазмалық өңдеу жүйесі туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.


PSS процесіне арналған ICP плазмалық сызу жүйесінің параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары

SiC-CVD қасиеттері

Кристалл құрылымы

FCC β фазасы

Тығыздығы

г/см³

3.21

Қаттылық

Викерс қаттылығы

2500

Астық мөлшері

μм

2~10

Химиялық тазалық

%

99.99995

Жылу сыйымдылығы

Дж·кг-1 ·К-1

640

Сублимация температурасы

2700

Жіңішке күш

МПа (RT 4-нүкте)

415

Young's модулі

Gpa (4pt иілісі, 1300â)

430

Термиялық кеңею (C.T.E)

10-6К-1

4.5

Жылу өткізгіштік

(Вт/мК)

300


PSS процесіне арналған ICP плазмалық сызу жүйесінің ерекшеліктері

- Қабыршақтануға жол бермеңіз және барлық бетінде жабын болуын қамтамасыз етіңіз

Жоғары температурадағы тотығуға төзімділігі: 1600°C дейін жоғары температурада тұрақты

Жоғары тазалық: жоғары температурада хлорлау жағдайында CVD химиялық бу тұндыру арқылы жасалған.

Коррозияға төзімділік: жоғары қаттылық, тығыз беті және ұсақ бөлшектер.

Коррозияға төзімділік: қышқыл, сілті, тұз және органикалық реагенттер.

- Ламинарлық газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізіңіз

- Жылу профилінің біркелкілігіне кепілдік

- Кез келген ластануды немесе қоспалардың таралуын болдырмаңыз





Hot Tags: PSS процесіне арналған ICP плазмалық ою жүйесі, Қытай, өндірушілер, жеткізушілер, зауыт, теңшелген, жаппай, кеңейтілген, берік

Қатысты санат

Сұрау жіберу

Сұрауыңызды төмендегі формада қалдырыңыз. Біз сізге 24 сағат ішінде жауап береміз.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept