Эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD сенсоры

Semicorex - эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD сусепторының жетекші жеткізушісі және өндірушісі. Біздің өнім жартылай өткізгіш салаларда, әсіресе пластинкадағы эпитаксиалды қабаттың өсуінде кеңінен қолданылады. Біздің қабылдағыш MOCVD-де тісті немесе сақина тәрізді дизайнымен орталық тақта ретінде пайдалануға арналған. Өнімнің жоғары ыстыққа және коррозияға төзімділігі бар, бұл оны төтенше ортада тұрақты етеді.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD сусцепторының артықшылықтарының бірі оның қабыршақтануын болдырмай, барлық бетті жабуды қамтамасыз ету қабілеті. Өнім 1600 ° C-қа дейінгі жоғары температурада тұрақтылықты қамтамасыз ететін жоғары температурада тотығуға төзімділікке ие. Біздің өніміміздің жоғары тазалығына CVD химиялық буының жоғары температурада хлорлау жағдайында тұндыру арқылы қол жеткізіледі. Ұсақ бөлшектері бар тығыз беті өнімнің қышқылдан, сілтіден, тұздан және органикалық реагенттерден коррозияға төзімділігін қамтамасыз етеді.
Эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD қабылдағышымыз жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз ететін ламинарлы газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізуге арналған. Бұл вафли чипіндегі жоғары сапалы эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ете отырып, кез келген ластануды немесе қоспалардың диффузиясын болдырмауға көмектеседі.
Эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD сенсоры туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

Эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD сусепторының параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері
Кристалл құрылымы	FCC β фазасы
Тығыздығы	г/см³	3.21
Қаттылық	Викерс қаттылығы	2500
Астық мөлшері	мкм	2~10
Химиялық тазалық	%	99.99995
Жылу сыйымдылығы	Дж кг-1 К-1	640
Сублимация температурасы	℃	2700
Фелексальды күш	МПа (RT 4-нүкте)	415
Жас модулі	Gpa (4pt иілу, 1300℃)	430
Термиялық кеңею (C.T.E)	10-6К-1	4.5
Жылу өткізгіштік	(Вт/мК)	300

Эпитаксиалды өсуге арналған MOCVD сусепторының ерекшеліктері

- Қабыршақтануға жол бермеңіз және барлық бетінде жабын болуын қамтамасыз етіңіз
Жоғары температурадағы тотығуға төзімділігі: 1600°C дейін жоғары температурада тұрақты
Жоғары тазалық: жоғары температурада хлорлау жағдайында CVD химиялық бу тұндыру арқылы жасалған.
Коррозияға төзімділік: жоғары қаттылық, тығыз беті және ұсақ бөлшектер.
Коррозияға төзімділік: қышқыл, сілті, тұз және органикалық реагенттер.
- Ламинарлық газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізіңіз
- Жылу профилінің біркелкілігіне кепілдік беру
- Кез келген ластануды немесе қоспалардың таралуын болдырмаңыз