ICP плазмалық сызу жүйесі

ICP Plasma Etching жүйесіне арналған Semicorex компаниясының SiC қапталған тасымалдаушысы арқылы жоғары сапалы эпитаксия және MOCVD процестеріне қол жеткізіңіз. Біздің өнім жоғары жылу мен коррозияға төзімділікті ұсына отырып, осы процестер үшін арнайы жасалған. Біздің тамаша SiC кристалды жабынымыз вафлиді оңтайлы өңдеуге мүмкіндік беретін таза және тегіс бетті қамтамасыз етеді.
ICP Plasma Etching жүйесіне арналған SiC қапталған тасымалдауышымыз туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

ICP Plasma Eching жүйесіне арналған SiC қапталған тасымалдаушының параметрлері

ICP Plasma Eching жүйесіне арналған SiC қапталған тасымалдаушының ерекшеліктері

- Қабыршақтануға жол бермеңіз және барлық бетінде жабын болуын қамтамасыз етіңіз

Жоғары температурадағы тотығуға төзімділігі: 1600°C дейін жоғары температурада тұрақты

Жоғары тазалық: жоғары температурада хлорлау жағдайында CVD химиялық бу тұндыру арқылы жасалған.

Коррозияға төзімділік: жоғары қаттылық, тығыз беті және ұсақ бөлшектер.

Коррозияға төзімділік: қышқыл, сілті, тұз және органикалық реагенттер.

- Ламинарлық газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізіңіз

- Жылу профилінің біркелкілігіне кепілдік

- Кез келген ластануды немесе қоспалардың таралуын болдырмаңыз