ICP Эттинг Вафли ұстағышы

Semicorex компаниясының ICP сызу пластинасы ұстағышы эпитакси және MOCVD сияқты жоғары температурада пластинаны өңдеу процестері үшін тамаша шешім болып табылады. 1600°C дейінгі тұрақты, жоғары температурадағы тотығуға төзімділігімен біздің тасымалдаушылар біркелкі жылу профильдерін, ламинарлы газ ағынының үлгілерін қамтамасыз етеді және ластануды немесе қоспалардың таралуын болдырмайды.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Эпитаксистік жабдық үшін вафельді тасымалдаушылардың сенімді жеткізушісін іздеп жүрсіз бе? Semicorex-тен ары қарай қарамаңыз. Біздің ICP ою-өрнекті вафли ұстағышымыз жоғары температура, қатал химиялық тазалау орталары үшін арнайы әзірленген. Жұқа SiC кристалды жабыны бар біздің тасымалдаушылар жоғары ыстыққа төзімділікті, тіпті термиялық біркелкілікті және ұзақ химиялық төзімділікті қамтамасыз етеді.
Біздің ICP Etching Wafer Holder жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз ететін ламинарлы газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізуге арналған. Бұл вафельді чипте жоғары сапалы эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ете отырып, кез келген ластануды немесе қоспалардың диффузиясын болдырмауға көмектеседі.
Біздің ICP Etching Wafer Holder туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

ICP Эттинг Вафли ұстағышының параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері
Кристалл құрылымы	FCC Î² фазасы
Тығыздығы	г/см³	3.21
Қаттылық	Викерс қаттылығы	2500
Астық мөлшері	Î¼м	2~10
Химиялық тазалық	%	99.99995
Жылу сыйымдылығы	Дж·кг-1 ·К-1	640
Сублимация температурасы	℃	2700
Жіңішке күш	МПа (RT 4-нүкте)	415
Young's модулі	Gpa (4pt иілісі, 1300â)	430
Термиялық кеңею (C.T.E)	10-6К-1	4.5
Жылу өткізгіштік	(Вт/мК)	300