ICP сызу вафли ұстағышы

Semicorex компаниясының ICP сызу пластинасы ұстағышы эпитакси және MOCVD сияқты жоғары температурада вафли өңдеу процестері үшін тамаша шешім болып табылады. 1600°C-қа дейінгі тұрақты, жоғары температурада тотығуға төзімділігімен біздің тасымалдаушылар біркелкі термиялық профильдерді, ламинарлы газ ағынының үлгілерін қамтамасыз етеді және ластануды немесе қоспалардың таралуын болдырмайды.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Эпитаксистік жабдық үшін вафельді тасымалдаушылардың сенімді жеткізушісін іздеп жүрсіз бе? Semicorex-тен ары қарай қарамаңыз. Біздің ICP ою-өрнекті вафли ұстағышымыз жоғары температура, қатал химиялық тазалау орталары үшін арнайы әзірленген. Жұқа SiC кристалды жабыны бар біздің тасымалдаушылар жоғары ыстыққа төзімділікті, тіпті термиялық біркелкілікті және ұзақ химиялық төзімділікті қамтамасыз етеді.
Біздің ICP Etching Wafer Holder жылу профилінің біркелкілігін қамтамасыз ететін ламинарлы газ ағынының ең жақсы үлгісіне қол жеткізуге арналған. Бұл вафли чипіндегі жоғары сапалы эпитаксиалды өсуді қамтамасыз ете отырып, кез келген ластануды немесе қоспалардың диффузиясын болдырмауға көмектеседі.
Біздің ICP Etching Wafer Holder туралы көбірек білу үшін бүгін бізге хабарласыңыз.

ICP Эттинг Вафли ұстағышының параметрлері

CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері
Кристалл құрылымы	FCC β фазасы
Тығыздығы	г/см³	3.21
Қаттылық	Викерс қаттылығы	2500
Астық мөлшері	мкм	2~10
Химиялық тазалық	%	99.99995
Жылу сыйымдылығы	Дж кг-1 К-1	640
Сублимация температурасы	℃	2700
Фелексальды күш	МПа (RT 4-нүкте)	415
Жас модулі	Gpa (4pt иілу, 1300℃)	430
Термиялық кеңею (C.T.E)	10-6К-1	4.5
Жылу өткізгіштік	(Вт/мК)	300