Electrostatic Chuck E-Chuck

Semicorex Electrostatic Chuck E-Chuck электростатикалық тартылыс принциптері бойынша жұмыс істейді, механикалық қысқыштарды немесе вакуумды соруды қажет етпей, пластинаны сенімді және дәл ұстауды ұсынады, әсіресе оюлау, иондарды өңдеуде қолданылады.

жартылай өткізгішті өңдеу, PVD, CVD, т.б. Оның теңшелетін өлшемдері оны қолданбалардың кең ауқымына бейімдейді, бұл оны жартылай өткізгіштерді өндіру процестерінде икемділік пен тиімділікті іздейтін компаниялар үшін тамаша таңдау жасайды.

J-R типті электростатикалық патронның негізгі технологиясы оның пластинка мен патрон беті арасында электростатикалық күш тудыру қабілеті болып табылады. Бұл күш патронға енгізілген электродтарға жоғары кернеуді қолдану арқылы жасалады, ол пластинаға да, патронға да зарядтарды тудырады, осылайша күшті электростатикалық байланыс жасайды. Бұл механизм пластинаны берік ұстап қана қоймайды, сонымен қатар вафли мен патрон арасындағы физикалық жанасуды азайтып, сезімтал жартылай өткізгіш материалдарға зақым келтіруі мүмкін ықтимал ластануды немесе механикалық кернеуді азайтады.

Semicorex тапсырыс берушінің талаптарына байланысты 200 мм-ден 300 мм-ге дейін немесе одан да үлкенірек өнімдерді шығара алады. Осы теңшелетін опцияларды ұсына отырып, J-R типті ESC жартылай өткізгіш процестердің ауқымы үшін максималды икемділікті қамтамасыз етеді, соның ішінде плазмалық тазарту, химиялық бу тұндыру (CVD), физикалық бу тұндыру (PVD) және иондық имплантация.

Материалдарға келетін болсақ, E-Chuck Electrostatic Chuck тамаша диэлектрлік қасиеттерімен, механикалық беріктігімен және термиялық тұрақтылығымен танымал алюминий тотығы (Al2O3) немесе алюминий нитриді (AlN) сияқты жоғары сапалы керамикалық материалдардан жасалған. Бұл керамика патронға жоғары температура, коррозиялық орта және плазмалық әсер ету сияқты жартылай өткізгіштерді өндірудің қатал жағдайларына төтеп беру үшін қажетті беріктік береді. Сонымен қатар, керамикалық беті вафлимен біркелкі жанасуды қамтамасыз ету, электростатикалық күшті күшейту және процестің жалпы өнімділігін жақсарту үшін жоғары тегістік дәрежесіне дейін жылтыратылады.

Электростатикалық Chuck E-Chuck сонымен қатар жартылай өткізгіштерді өндіруде жиі кездесетін жылулық қиындықтарды шешуге арналған. Температураны басқару пластинаның температурасы тез ауытқып тұратын ою немесе тұндыру сияқты процестер кезінде өте маңызды. Патронда қолданылатын керамикалық материалдар жылуды тиімді таратуға және пластинаның тұрақты температурасын сақтауға көмектесетін тамаша жылу өткізгіштігін қамтамасыз етеді.

Электростатикалық Chuck E-Chuck бөлшектердің ластануын азайтуға баса назар аудара отырып жасалған, бұл тіпті микроскопиялық бөлшектер түпкілікті өнімде ақауларға әкелуі мүмкін жартылай өткізгіштер өндірісінде өте маңызды. Патронның тегіс керамикалық беті бөлшектердің жабысу ықтималдығын төмендетеді, ал электростатикалық ұстау механизмінің арқасында вафли мен патрон арасындағы физикалық байланыс азаяды, ластану қаупін одан әрі төмендетеді. J-R типті ESC үлгілерінің кейбір үлгілері сонымен қатар бөлшектерді қайтаратын және коррозияға қарсы тұратын, таза бөлме жағдайында патронның ұзақ қызмет етуі мен сенімділігін арттыратын жетілдірілген беттік жабындарды немесе өңдеулерді қамтиды.

Қорытындылай келе, J-R типті E-Chuck E-Chuck - бұл жартылай өткізгіштерді өндіру процестерінің кең ауқымында ерекше өнімділікті ұсынатын әмбебап және сенімді пластинаны ұстайтын шешім. Оның теңшелетін дизайны, жетілдірілген электростатикалық ұстау технологиясы және берік материал қасиеттері оны тазалық пен дәлдіктің ең жоғары стандарттарын сақтай отырып, вафли өңдеуді оңтайландыруға ұмтылатын компаниялар үшін тамаша таңдау жасайды. J-R типті ESC плазмалық сызу, тұндыру немесе ион имплантациясында қолданылғанына қарамастан, бүгінгі жартылай өткізгіш өнеркәсібінің талап етілетін қажеттіліктерін қанағаттандыру үшін қажетті икемділікті, беріктікті және тиімділікті қамтамасыз етеді. Кулон және Джонсен-Рахбек режимдерінде жұмыс істеу, жоғары температураларды өңдеу және бөлшектердің ластануына қарсы тұру қабілетімен J-R типті ESC жоғары кірістілік пен жақсартылған процесс нәтижелеріне ұмтылудың маңызды құрамдас бөлігі болып табылады.