Эпитаксиалды өсуге арналған тақта

Эпитаксиалды өсуге арналған Semicorex пластина эпитаксиалды процестердің күрделілігін қамтамасыз ету үшін арнайы жасалған маңызды элемент болып табылады. Арнайы спецификациялар мен қалауларға сәйкес реттелетін біздің ұсыныс бірегей операциялық қажеттіліктеріңізге сәйкес келетін жеке бейімделген шешімді ұсынады. Біз әртүрлі қолдану сценарийлерінде өнімділікті арттыруға қабілетті өнімді әзірлеуге және жеткізуге мүмкіндік беретін өлшемді өзгертулерден бастап жабын қолданбасындағы вариацияларға дейін теңшеу опцияларының ауқымын ұсынамыз. Біз Semicorex компаниясында сапаны үнемділікпен біріктіретін эпитаксиалды өсуге арналған жоғары өнімді плиталарды өндіруге және жеткізуге бағытталғанбыз.

Сұрау жіберу

Өнім Сипаттамасы

Эпитаксиалды қабаттың қалыптасуы кезінде жартылай өткізгіш пластиналарды қолдаудың нақты тапсырмасы үшін әзірленген эпитаксиалды өсуге арналған Semicorex тақтасы Металл-органикалық химиялық буларды тұндыру (MOCVD) жүйелерінде өте қажет. Оның стратегиялық рөлі эпитаксиалды пленкалардың біркелкі және бақыланатын кеңеюін жеңілдету, пластинаның бетінде дәйекті сапаны қамтамасыз ету болып табылады.

1. Төзімділікті ескере отырып жасалған, эпитаксиалды өсуге арналған пластина пластинаның қозғалу немесе зақымдану ықтималдығын азайтатын тұрақты платформаны қамтамасыз етеді, осылайша эпитаксиалды қабықшаның дамуының сезімтал фазалары кезінде пластинаның тұтастығын қорғайды. Эпитаксиалды өсуге арналған пластина тек тірек ретінде ғана емес, сонымен қатар эпитаксия кезінде пайда болуы мүмкін агрессивті химиялық реакциялар мен тозудан астындағы графит үшін қалқан ретінде де әрекет етеді.

2. Эпитаксиалды өсуге арналған пластинаға SiC жабынының қосылуы оның термиялық қасиеттерін айтарлықтай жақсартады, бұл эпитаксиалды қабаттың біркелкі қалыптасуы үшін маңызды болып табылатын жылдам және теңдестірілген жылу дисперсиясын қамтамасыз етеді. Эпитаксиалды өсуге арналған тақтайшаның жылуды біркелкі сіңіру және шығару қабілеті жұқа қабықшалардың дәл тұндыруына қолайлы термиялық тұрақты ортаны қамтамасыз етеді — жоғары сапалы эпитаксиалды қабаттарды өндірудің маңызды факторы, оған жетілдірілген жартылай өткізгіштердің тиімділігі мен сенімділігі байланысты.

3. Жұқа SiC кристалдарының жабыны бар, эпитаксиалды өсуге арналған пластина пластиналарды нәзік өңдеу үшін өте маңызды мінсіз тегіс бетті ұсынады. Бұл таза интерфейс беттің кез келген ықтимал ластануын азайтады, өйткені пластиналар бүкіл процесс барысында эпитаксиалды өсу үшін пластина арқылы кең байланыс жасайды.

Қорытындылай келе, эпитаксиалды өсуге арналған Semicorex тақтасын пайдалану тұрақты өнімділікті және ұзартылған қызмет ету мерзімін уәде етеді, бұл ауыстыру қажеттілігінің жиілігін азайтады. Эпитаксиалды өсуге арналған пластина өнім калибрін айтарлықтай жоғарылатады, осылайша операциялық тоқтау уақытын және техникалық қызмет көрсету шығындарын азайтады, сонымен қатар өндіріс тиімділігін арттырады.**