- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Жаңалықтар
NVIDIA Rubin графикалық процессорлары толығымен графендік термалды төсемдерге ауысады
2026 жылдың мамыр айында NVIDIA стандартты Вера Рубиндегі (1800-2000 Вт TDP) сұйық металдан толығымен бас тарту және жаппай өндіріс үшін жоғары жылу өткізгіштік графен төсеніштеріне ауысу туралы шешімін аяқтады; Ультра жоғары деңгейлі нұсқасы (2500-2850 Вт) сұйық металдың экстремалды ерітіндісін + м......
Ары қарай оқу
Неліктен кеуекті алюминий тотығы патрондары дәл жартылай өткізгіштерді өндіру үшін таңдаулы таңдау болып табылады
Жартылай өткізгіш өнеркәсібі жоғары дәлдікті, таза өңдеу ортасын және өндірістің жоғары тиімділігін талап етуді жалғастыруда. Вафельдің өлшемдері ұлғайған сайын және технологиялық төзімділік барған сайын қатаң бола түскен сайын, вафельді ұстаудың дәстүрлі әдістері қазіргі заманғы өндіріс талаптарын ......
Ары қарай оқу
Жартылай өткiзгiштi ою процесiнiң технологиясы
Эттинг немесе ою - жартылай өткізгіштерді өндірудегі, микроэлектроника IC өндірісіндегі және микро/нано өндіріс процестеріндегі шешуші қадам. Бұл фотолитографиямен байланысты негізгі үлгілеу процесі. Тар мағынада, ою-өрнек шын мәнінде фотолитографиялық ою болып табылады, мұнда фоторезист алдымен фот......
Ары қарай оқу
Кремний нитриді керамикасының практикалық және теориялық жылу өткізгіштігінің арасындағы алшақтықтың себептері
Кремний нитриді (Si₃N₄) – өзіндік жылу өткізгіштігі шамамен 320 Вт/(м·К), жоғары жылу өткізгіштігі мен тамаша механикалық қасиеттері бар құрылымдық керамикалық материал. Қоршаған орта температурасындағы жоғары тұрақтылығының арқасында Si₃N₄ заманауи жартылай өткізгіш өнеркәсібі үшін кеңінен қабылдан......
Ары қарай оқу
Термиялық тотығудың негізгі түрлері
Жоғары сапалы жартылай өткізгіш құрылғыларды өндіруде SiO₂ пленкалары әдетте субстрат бетін өңдеу үшін тотығу процестері арқылы қалыптасады және олардың кең таралған қолданбаларына қоспалық тосқауыл қабаттары, беткі оқшаулау қабаттары, қақпа оксидтері қабаттары, өріс оксидтері және құрбандық оксидте......
Ары қарай оқу
Жартылай өткізгішті өңдеуде қолданылатын Semicorex Керамика
Технологияның дамуымен ұялы телефондар, компьютерлер, электр көліктері және роботтар сияқты ақылды өнімдер адам өміріне кіріктірілді. Бұл өнімдерде жартылай өткізгіш микросхемалардың көп саны бар, ал чиптерді дайындау үшін жартылай өткізгіш жабдықтар қажет, мысалы, ою машиналары, литография машинала......
Ары қарай оқу
