- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Жаңалықтар
Жоғары кедергісі бар кремний пластинкаларына қысқаша кіріспе
Жоғары кедергісі бар кремний пластиналары (HR-Si), аты айтып тұрғандай, өте жоғары кедергісі бар монокристалды кремний материалы. Жетілдірілген жартылай өткізгіштерді өндіру саласында жоғары жиілікті жоғалту жоғары деңгейлі чиптерді жобалаудағы басты қиындыққа айналды. Өзінің ультра жоғары кедергісі......
Ары қарай оқу
Неліктен фокус сақинасы ою жабдығы үшін өте қажет?
Фокус сақинасы, сондай-ақ өтемақы сақинасы немесе оқшаулау сақинасы деп аталады, ою жабдығының, әсіресе плазмалық құрғақ өңдеу жабдығының таптырмас құрамдас бөлігі болып табылады. Онсыз заманауи жартылай өткізгіш өндірісіндегі наноөлшемді дәлдікпен өңдеу процестеріне қол жеткізу мүмкін емес еді. Фок......
Ары қарай оқу
Күйдіру процесі қандай рөлдерді атқарады?
Жылыту және салқындату профильдерін дәл реттей отырып, жасыту процесі қоспа атомдарын белсендіреді, тордың зақымдалуын қалпына келтіреді, ішкі кернеуді жеңілдетеді және пластинаның электрлік сенімділігін жақсартады. Бұл маңызды өнімділік жақсартулары жоғары қуатты және жоғары интеграциялық сценарийл......
Ары қарай оқу
Керамикалық вакуумдық патрондар
Керамикалық вакуумдық патрондар жартылай өткізгіш пластиналарды өндіруде жартылай өткізгіш пластиналарды қысу және тасымалдау үшін қолданылатын құрал болып табылады. Олар жоғары тегістік пен параллелизммен, тығыз және біркелкі құрылыммен, жоғары беріктікпен, жақсы ауа өткізгіштікпен, біркелкі адсорб......
Ары қарай оқу
SiC эпитаксиалды пеші үшін жылу өрісінің дизайнын оңтайландыру (ыстық қабырғалы CVD реакторы)
Негізгі мақсат пластинаның бетінің температурасының біркелкілігіне (≤±0,5–5℃) және температура/ағын өрісінің тұрақтылығына қол жеткізу, осылайша эпитаксиалды қабат қалыңдығының біркелкілігін жақсарту (<3%), doping uniformity (<8%), reducing defect density, and increasing growth rate (>60 мкм/сағ).
Ары қарай оқу
Көміртекті/көміртекті композициялық материалдардың негізгі технологиялары
C/C композиттері көптеген тамаша қасиеттерге ие және қазіргі уақытта инертті атмосферада 2600°C жоғары температурада жұмыс істей алатын жалғыз композиттік материалдар болып табылады, бұл оларды аэроғарыш, қару-жарақ, атом энергетикасы, металлургия және химия өнеркәсібінде кеңінен қолдануға мүмкіндік......
Ары қарай оқу
