Эпитаксия құрамдас бөлігі

Semicorex Epitaxy Component - жоғары өнімді SiC қапталған графит бөлігі.LPE реакторлары, кремний карбидінің (SiC) эпитаксиалды өсу процесі үшін LPE-де маңызды өтпелі бөлік ретінде қызмет етеді. Бұл инновациялық компонент қуатты электрониканы, жоғары температуралық сенсорларды және жетілдірілген жартылай өткізгіш құрылғыларды қоса алғанда, кең ауқымды қолданбалар үшін маңызды болып табылатын SiC кристалының өсуінің тиімділігі мен сапасын арттыруда маңызды рөл атқарады.

Тазалығы жоғары графиттен жасалған және кремний карбидінің берік қабатымен қапталған Epitaxy компоненті тамаша жылу өткізгіштік пен ерекше механикалық беріктікті біріктіреді. TheSiC жабынықұрамдас бөліктің химиялық тұрақтылығын жақсартып қана қоймайды, сонымен қатар жоғары термиялық тұрақтылықты қамтамасыз етеді, бұл оны LPE процестерінің қиын жағдайлары үшін өте қолайлы етеді. Біздің мұқият өндірістік процесс кристалдардың өсуі кезінде дәл бақылауға мүмкіндік беретін біркелкі жабын қалыңдығын және өнімділік консистенциясын қамтамасыз етеді.

Эпитаксия компоненті өсу материалының біркелкі таралуын қамтамасыз ететін реактор ішіндегі сұйықтықтың оңтайлы динамикасын жеңілдету үшін жасалған. Оның инновациялық дизайны турбуленттілікті азайтады және массаны тасымалдауды жақсартады, бұл біркелкі және ақаусыз SiC қабатына әкеледі. Бұл кристалл сапасы құрылғы өнімділігіне тікелей әсер ететін қолданбаларда өте маңызды.

SiC эпитаксисіжартылай өткізгіш өнеркәсібінде, әсіресе жоғары кернеулер мен температураларда жұмыс істейтін қуат құрылғылары үшін барған сайын маңызды. Эпитаксия құрамдас бөлігі өндірушілерге заманауи электронды қосымшалардың қатаң талаптарына жауап беретін жоғары сапалы SiC пластинкаларын шығаруға мүмкіндік беретін осы процестің маңызды бөлігі болып табылады. Электрлік көліктер, жаңартылатын энергия жүйелері және өнімділігі жоғары есептеуіштердің өсіп келе жатқан нарығында сенімді SiC субстраттарына сұраныс өсуде.

Epitaxy компонентінің тиімділігі әртүрлі LPE қондырғыларында дәлелденген, мұнда оның өнімділігі SiC кристалдарының жалпы шығымы мен сапасына айтарлықтай үлес қосады. Реактордағы әртүрлі материалдар арасындағы тұрақты ауысу интерфейсін қамтамасыз ете отырып, бұл компонент жалпы процестің сенімділігін арттырады, тоқтау уақытын азайтады және өткізу қабілетін арттырады.