Жарты айдың құрамдас бөліктері

Semicorex Half Moon компоненттері әдетте эпитаксиалды реакторлардың ішіне орнатылған жартылай цилиндрлік немесе сегменттелген ішкі реактор құрылымдары болып табылады. Олардың бірегей геометриясы эпитаксиалды өсу процестері кезінде газды бөлуді, жылуды басқаруды, пластинаны орналастыруды және камераны қорғауды оңтайландыруға көмектеседі.

Көрсетілген өнімде LPE стиліндегі камера конфигурацияларына сәйкес келу үшін арнайы әзірленген ішкі тірек геометриясы бар дәл өңделген цилиндрлік құрылым бар. Бұл компоненттер әдетте жоғары таза графиттен жасалған және ұзақ мерзімділікті, тазалықты және химиялық төзімділікті жақсарту үшін CVD кремний карбиді (SiC) жетілдірілген жабындарымен қорғалуы мүмкін.

Эпитаксиалды реакторларда құрамдастардың тұрақтылығы мен тазалығы пленканың біркелкілігіне, кристалдың сапасына және пластинаның шығымына тікелей әсер етеді. Сондықтан реактордың ішкі бөліктері агрессивті химиялық ортаға, жылдам термиялық циклге және деформациясыз немесе ластанбай ұзақ уақыт жоғары температурада жұмыс істеуге төтеп беруі керек.

LPE стиліндегі камералармен үйлесімді реактор бөліктері

Semicorex LPE эпитаксиалды жүйелерімен үйлесімді бірнеше реактор бөлшектерін шығарады, соның ішінде:

* Жарты ай бөліктері

* Қорғаныс қақпақтары

* Ағын бағыттаушы бөліктері

* Вафельді тірек бөліктері

* Қорғау сақиналары

* Арнайы графит жинақтары

Барлық құрамдас бөліктерді реактор өлшемдеріне, технологиялық процесс жағдайларына және тұтынушыға арналған дизайн талаптарына сәйкес теңшеуге болады.

Жартылай ай компоненттерінің негізгі ерекшеліктері

Жоғары тазалықтағы графит негізі

Реактордың құрамдас бөліктері жоғары тығыздықты, жоғары тазалықты қолдану арқылы дайындаладыизостатикалық графиттік материалдаржартылай өткізгіш қолданбалар үшін арнайы таңдалған. Төмен қоспалар эпитаксиалды өсу процестері кезінде ластану қаупін азайтуға көмектеседі.

Жоғары тазалықтағы материалдар келесілерді сақтау үшін маңызды:

* Тұрақты кристалдық өсу

* Біркелкі эпитаксиалды қабаттар

* Ақаулардың төмен тығыздығы

* Жартылай өткізгішті тазалық

Жетілдірілген SiC жабу қорғанысы

Күрделі технологиялық орталар үшін графиттік негізді тығыз жабуға боладыCVD кремний карбиді. SiC жабыны тамаша адгезиясы және химиялық тұрақтылығы бар жоғары қорғаныс беткі қабатын құрайды.

SiC жабыны мыналарды қамтамасыз етеді:

* Жоғары коррозияға төзімділік

* Бөлшектердің генерациясының төмендеуі

* Жақсартылған тозуға төзімділік

* Тотығуға төзімділігі жоғарылайды

* Ұзақ қызмет ету мерзімі

Сондай-ақ, жабын графит негізін технологиялық газдар мен агрессивті тазартқыш химиялық заттардан қорғайды.

Тамаша термиялық тұрақтылық

Жартылай ай компоненттері жылу консистенциясы маңызды болып табылатын жоғары температуралы эпитаксиалды реакторларда жұмыс істейді. Графит және SiC материалдары тамаша жылу өткізгіштік пен термиялық соққыға төзімділікті ұсынады, бұл жылдам қыздыру және салқындату циклдері кезінде тұрақты камера жағдайларын сақтауға көмектеседі.

Тамаша жылу өнімділігі мыналарға ықпал етеді:

* Температураның біркелкі таралуы

* Термиялық кернеудің төмендеуі

* Процестің тұрақты қайталануы

* Жақсартылған эпитаксиалды қабат консистенциясы

Дәл өңдеу мүмкіндігі

Semicorex қатаң өлшемдік төзімділіктер мен күрделі ішкі құрылымдарға қол жеткізу үшін CNC өңдеудің озық және дәл өндіріс технологияларын пайдаланады.

Дәл өңдеу мыналарды қамтамасыз етеді:

* Реакторды дұрыс орнату

* Тұрақты газ ағынын басқару

* Сенімді вафельді орналастыру

* Тұрақты камера өнімділігі

Реактордың арнайы конструкцияларына сәйкес күрделі теңшелген геометриялар да шығарылуы мүмкін.

Күшті химиялық төзімділік

Эпитаксиялық процестер жиі коррозиялық газдар мен қатал жұмыс жағдайларын қамтиды. SiC жабыны бар реактор компоненттері мыналарға тамаша төзімділік көрсетеді:

*Сутегі

* Құрамында хлор бар газдар

* Қышқылды тазартатын химиялық заттар

* Жоғары температурадағы тотығу

Бұл химиялық төзімділік құрамдастардың қызмет ету мерзімін едәуір ұзартады және техникалық қызмет көрсету жиілігін азайтады.

Эпитаксиалды өсу жүйелеріндегі қолданбалар

Жартылай ай компоненттері жартылай өткізгіштерді өндіруге арналған қосымшалар үшін озық эпитаксиалды өңдеу жабдықтарында кеңінен қолданылады, соның ішінде:

* Кремний эпитаксисі

* SiC эпитаксистік өсу

* GaN эпитаксисі

* Қуатты жартылай өткізгіштерді өндіру

* Жарықдиодты өндіріс

* Жетілдірілген вафли өңдеу

* Жоғары температуралық CVD жүйелері

Реактор камерасының ішінде бұл компоненттер газ ағынының динамикасын оңтайландыруға, процестің біркелкілігін сақтауға және маңызды камера аймақтарын термиялық және химиялық зақымданудан қорғауға көмектеседі.

Неліктен Semicorex таңдау керек?

Semicorex жартылай өткізгішті және жоғары температуралы өнеркәсіптік қолданбаларға арналған жетілдірілген графит пен кремний карбиді шешімдеріне назар аударады. Эпитаксиалды реактордың құрамдас бөліктерінде үлкен тәжірибеге ие бола отырып, біз ұзақ мерзімді сенімділік пен жартылай өткізгіштік өнімділікке арналған дәлдікпен жасалған өнімдерді ұсынамыз.

Біздің артықшылықтарымыз мыналарды қамтиды:

* Тазалығы жоғары шикізат

* Жетілдірілген SiC жабу технологиясы

* Дәл өңдеу мүмкіндігі

* Арнайы инженерлік қолдау

* Сапаны қатаң бақылау

* Жаһандық жеткізу мүмкіндігі

Жетілдірілген материал тәжірибесін теңшелген өндірістік шешімдермен біріктіре отырып, Semicorex бүкіл әлем бойынша тұтынушыларға келесі буын жартылай өткізгіш технологиялары үшін тұрақты және тиімді эпитаксиалды өсу процестеріне қол жеткізуде қолдау көрсетеді.