Газ тарату нөмірлері

Subicorex газ тарату тақталары алдыңғы қатарлы плазмалық жүйелерде, әсіресе дәлдік, біркелкілік және ластануды бақылау кезінде жартылай өткізгіштерде маңызды рөл атқарады. Біздің газ таратушы табақ,CVD SIC), қазіргі құрғақ этикетинг процестерінің қатаң талаптарын қанағаттандыруға арналған.

Процесс кезінде вафли бетіне дәйекті плазмалық таралуын қамтамасыз ету үшін, Палатаға Реактивті газдарды басқару керек. Газ тарату нөмірлері вафлидің үстінде орналасқан және дуальды функцияға қызмет етеді: ол алдымен технологиялық газдарды алдын-ала араластырады, содан кейін оларды біртұтас реттелген арналар мен электрод жүйесіне бағыттайды. Газды жеткізудің дәлдігі бірыңғай плазмалық сипаттамаларға және бүкіл вафли бойынша этчтердің дәйекті деңгейіне жету үшін қажет.

Біркелкілікті реактивті газдың инжекторлық әдісін оңтайландыру арқылы одан әрі жақсартуға болады:

• Алюминийді алу палатасы: Реактивті газ әдетте вафлидің үстінде орналасқан душ қабылдағыш арқылы жеткізіледі.

• Кремнийді алу палатасы: Бастапқыда газ вафлидің шеткеріден айқайлады, содан кейін біркелкілікті арттыру үшін вафлидің ортасынан біртіндеп іске қосылды.

Жуыршақтық ретінде белгілі газ тарату нөмірлері, сонымен қатар жартылай өткізгіш өндіріс процестерінде кеңінен қолданылатын газ тарату құрылғысы. Ол негізінен, негізінен, реакция камерасына газ тарату үшін пайдаланылады, бұл жартылай өткізгіш материалдарды реакция процесінде газбен біркелкі байланыстыруға, өндіріс тиімділігі мен өнімнің сапасын жақсартуға болады. Өнім жоғары дәлдікке, жоғары тазалыққа және көп композициялық бетті өңдеудің сипаттамалары бар (мысалы, құмды және анодтюр / щетка) Никельмен қапталған / электролитикалық жылтырату / electrolyt). Газ тарату тақталары реакция камерасында орналасқан және вафли реакция ортасына біркелкі жиналған газ қабатын ұсынады. Бұл вафли өндірісінің негізгі компоненті.

Вафли реакция процесінде газ тарату плиталарының беті тығыз жабық, микроахникалармен тығыз жабылған (диафрагма 0,2-6 мм). Дәл жобаланған құрылымы және газ жолы арқылы арнайы технологиялық газ біркелкі газ тақтасына мыңдаған кішкене тесіктерден өтуі керек, содан кейін біркелкі вафли бетіне сақталуы керек. Вафлидің әр түрлі аудандарындағы кино қабаттары жоғары біркелкілік пен дәйектілікті қамтамасыз етуі керек. Сондықтан, тазалық пен коррозияға төзімділігі жоғары талаптардан басқа, газ тарату тақталарында газ тарату тақталарында біркелкі тесіктердің диафрациясының біркелкі тесіктеріне және кішкене тесіктердің ішкі қабырғасындағы тесіктердің сәйкестігі бар. Егер саңылау мөлшері толеранттылық пен сәйкестік стандартты ауытқу тым үлкен болса немесе кез-келген ішкі қабырғаға бұралса, жиналған кино қабатының қалыңдығы сәйкес келмейді, бұл жабдық технологиялық өнімнің шығымдылығына тікелей әсер етеді. Плазма-көмекші процестерде (мысалы, Pecvd және құрғақ), душтың бастары электродтың бөлігі ретінде, плазманың біркелкі таралуына ықпал ететін RF электрмен жабдықтау арқылы бірыңғай электр өрісін жасайды, осылайша игеру немесе тұндырудың біркелкілігін арттырады.

БіздіңCVD SICГаз тарату нөмірлері жартылай өткізгіштік өндірісте қолданылатын плазмалық платформалардың кең спектріне жарамды, мемсиндер өңдеу және озық қаптамада қолданылады. Жеке дизайнды белгілі бір құралдардың талаптарын, соның ішінде өлшемдерді, тесік үлгілерін және бетінің әрлеуін орындау үшін әзірлеуге болады.

SIC CVD-ден жасалған жартылай газ тарату нөмірлері газ жеткізудің ерекше компоненті, газды жеткізудің ерекше, ерекше беріктігі және минималды ластану қаупі бар. Оны пайдалану жоғары технологиялық шығыстарға, төменгі дефектілікке, төменгі дефектілікке және ұзақ уақыт жұмыс уақытына, оны жетекші жартылай өткізгішті өндіріске сенімді таңдау жасауға ықпал етеді.