TAC жабынды тұғырды жақтаушы

Subicorex TAC жабыны тұғырының жақтаушысы механикалық қолдауда, бірақ процестер ағынын бақылауда маңызды рөлге ие. Ол реакторда қолданған кезде негізгі сезімтал немесе вафли тасымалдаушысының астында орналасқан. Ол айналмалы жинақты орнына бекітеді, тұғырға термиялық тепе-теңдікті ұстайды және вафли аймағының астындағы сау газ ағынын басқарады. TAC жабыны тұғырының жақтаушысы екі функция үшін, соның ішінде сындарлы түрде жасалған графит негізі үшін жасалады, ол конструктивті түрде жасалған графит негізі (CVD) (CVD).

Тантал Карбиді - 3800 ° C-тан жоғары балқытылатын және химиялық инертті материалдардың бірі және химиялық тұрғыдан инертті материалдардың бірі және коррозия мен эрозияға үлкен төзімділік. CVD өндіру үшін жұмыс істейтін кездеTAC жабындары, Нәтижесі - графит субстратын жоғары температуралы тотығудан, аммиак коррозиясынан және металл-органикалық реакциядан қорғайтын тегіс, тығыз жабық. Коррозиялық газдарға немесе эпитаксиальды процестермен байланысты экстремалды жылу велосипедіне ұзақ әсер ете отырып, тұғырдағы жақтаушы құрылымдық және химиялық тұрақтылықты сақтайды.

Бірнеше сыни функцияларды орындау, CVD TAC жабыны графит жабынынан және субстратқа кез-келген көміртекті ластануды, реактор ортасын енгізу немесе вафлиге әсер етуі мүмкін қорғаныш тосқауыл ретінде әрекет етеді. Екіншіден, ол атмосферада да, аз тотықтырғышта таза және тұрақты бетті сақтауды қамтамасыз етеді. Бұл технологиялық газдар мен реактордың аппараттық құралдары арасындағы қалаусыз реакциялардың алдын алады, газ фазасы химиясының бақылауын және формальды біркелкілік сақталатынын қамтамасыз етеді.

Газды ағындардағы жақтағы жақтаушының маңыздылығы бірдей атап өтілуі керек. Эпитаксиальды тұндыру процесінде негізгі аспект - бұл вафлидің бүкіл бетіне ағып жатқан технологиялық газдардың біркелкілігін қамтамасыз ету. TAC жабыны тұғырының жақтағыштары тікелей технологиялық газдарды тікелей және реакция аймағына біркелкі және біркелкі ете алатын газ ағындарының арналары мен геометрияларын бақылау үшін өңделген. Ламинар ағынын бақылау арқылы турбуленттілік азайтылған, өлі аймақтар жойылады, ал тұрақты газ ортасы пайда болады. Мұның бәрі керемет фильмнің қалыңдығына және эпитаксиальды сапасына ықпал етеді.

ТаTAC жабыныЖоғары жылу өткізгіштік пен эмиссияны қамтамасыз етеді, ол сонымен қатар тұғырды жақтаушыға жылуды тиімді өткізуге және сәуле шығаруға мүмкіндік береді. Бұл сонымен қатар кристалды өсудің аз өзгеруіне әкелетін төменгі температуралық градиенттермен сезімталдық пен вафлидің температураның жалпы біркелкілігіне әкеледі. Сонымен қатар, TAC ұзақ мерзімді операциялар кезінде, температураны калибрлеуді және процестің нақты жұмысын қамтамасыз ететін ұзақ мерзімді операцияларды қамтамасыз ететін ерекше тотығуға төзімділікті ұсынады.

TAC жабыны тұғырын жақтаушы жоғары механикалық беріктікке ие, кеңейтілген пайдалану мерзіміне несие беру. CVD-жабыны процесі, атап айтқанда, TAC қабаты мен графит субстраты арасында қатты молекулалық байланыстыру жасайды, бұл термиялық стресстен сынудың, крекингтің немесе қабығын болдырмайды. Сондықтан бұл жүздеген жоғары температуралы циклдерден деградациясыз пайда әкеледі.