- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Өнімдер
Semicorex - Қытайдағы кәсіби өндірушілер мен жеткізушілер. Біздің зауыт баррельді қабылдағышты, mocvd қабылдағышты, вафельді қайықты және т.б. қамтамасыз етеді. Экстремалды дизайн, сапалы шикізат, жоғары өнімділік және бәсекеге қабілетті баға - бұл әр тұтынушы қалайды, және де біз сізге ұсына алатын нәрсе. Біз жоғары сапа, қолайлы баға және мінсіз қызмет аламыз.
- View as
Жартылай өткізгішке арналған PSS сызу тасушы пластина
Жартылай өткізгіштерге арналған Semicorex PSS Эттинг тасымалдаушы пластина эпитаксиалды өсу және пластинаны өңдеу процестері үшін қажет жоғары температура мен қатал химиялық тазалау орталары үшін арнайы әзірленген. Жартылай өткізгіштерге арналған ультра таза PSS Эттинг тасымалдаушы пластинамыз MOCVD және эпитаксистік сенсорлар, құймақ немесе спутниктік платформалар сияқты жұқа қабықша тұндыру фазалары кезінде пластиналарды қолдауға арналған. Біздің SiC жабыны бар тасымалдағышымыз жоғары жылу және коррозияға төзімділікке, тамаша жылу тарату қасиеттеріне және жоғары жылу өткізгіштікке ие. Біз өз тұтынушыларымызға үнемді шешімдерді ұсынамыз және біздің өнімдер көптеген еуропалық және американдық нарықтарды қамтиды. Semicorex сіздің Қытайдағы ұзақ мерзімді серіктес болуды асыға күтеді.
Ары қарай оқуСұрау жіберу
SiC жабындысы бар PSS сызу тасығышы
Эпиксиалды өсуде және вафельді өңдеуде қолданылатын вафельді тасымалдаушылар жоғары температураға және қатты химиялық тазалауға төтеп беруі керек. Semicorex SiC қапталған PSS Эттинг тасымалдаушысы осы күрделі эпитаксистік жабдықты қолдану үшін арнайы әзірленген. Біздің өнімдер жақсы баға артықшылығына ие және көптеген еуропалық және американдық нарықтарды қамтиды. Біз сіздің Қытайдағы ұзақ мерзімді серіктес болуды асыға күтеміз.
Ары қарай оқуСұрау жіберу
LPE эпитаксиалды өсуіне арналған SiC қапталған бөшкелік сенсор
LPE эпитаксиалды өсуге арналған Semicorex SiC қапталған бөшкелік сусептор ұзақ уақыт бойы тұрақты және сенімді өнімділікті қамтамасыз етуге арналған жоғары өнімді өнім болып табылады. Оның біркелкі термиялық профилі, ламинарлы газ ағынының үлгісі және ластануды болдырмау оны вафли чиптеріндегі жоғары сапалы эпитаксиалды қабаттардың өсуі үшін тамаша таңдау жасайды. Оның теңшеу мүмкіндігі мен үнемділігі оны нарықта жоғары бәсекеге қабілетті өнімге айналдырады.
Ары қарай оқуСұрау жіберу
Бөшке қабылдағыш эпи жүйесі
Semicorex Barrel Susceptor Epi System - бұл жабынның жоғары адгезиясын, жоғары тазалығын және жоғары температурада тотығуға төзімділігін ұсынатын жоғары сапалы өнім. Оның біркелкі жылу профилі, ламинарлы газ ағынының үлгісі және ластануды болдырмау оны вафли чиптеріндегі эпиксиалды қабаттардың өсуі үшін тамаша таңдау жасайды. Оның үнемділігі мен теңшеу мүмкіндігі оны нарықта жоғары бәсекеге қабілетті өнімге айналдырады.
Ары қарай оқуСұрау жіберу
Сұйық фазалық эпитаксия (LPE) реактор жүйесі
Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) реактор жүйесі тамаша термиялық өнімділікті, тіпті термиялық профильді және жабынның жоғары адгезиясын ұсынатын инновациялық өнім болып табылады. Оның жоғары тазалығы, жоғары температурада тотығуға төзімділігі және коррозияға төзімділігі оны жартылай өткізгіш өнеркәсібінде пайдалану үшін тамаша таңдау жасайды. Оның теңшелетін опциялары мен үнемділігі оны нарықта жоғары бәсекеге қабілетті өнімге айналдырады.
Ары қарай оқуСұрау жіберу
Бөшке реакторындағы CVD эпитаксиалды тұндыру
Semicorex CVD эпитаксиалды тұндыру бөшкелік реактор - бұл пластиналардағы эпиксиалды қабаттарды өсіруге арналған жоғары берік және сенімді өнім. Оның жоғары температурада тотығуға төзімділігі және жоғары тазалығы оны жартылай өткізгіш өнеркәсібінде қолдануға жарамды етеді. Оның біркелкі жылу профилі, ламинарлы газ ағынының үлгісі және ластануды болдырмау оны эпиксиалды қабаттың жоғары сапалы өсуі үшін тамаша таңдау жасайды.
Ары қарай оқуСұрау жіберу
