- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Компания жаңалықтары
CVD операцияларындағы плазмалық процестер
Химиялық буларды тұндыру (CVD) әртүрлі парциалды қысымдардағы бірнеше газ тәрізді реактивтер белгілі бір температура мен қысым жағдайында химиялық реакцияға түсетін технологиялық технологияны білдіреді. Алынған қатты зат субстрат материалының бетіне шөгеді, осылайша қажетті жұқа пленканы алады. Дәст......
Ары қарай оқу
Жартылай өткізгіштер өндірісіндегі кремний эпитаксиалды қабаттары мен субстраттары
Қазіргі заманғы электроника, оптоэлектроника, микроэлектроника және ақпараттық технологиялар салаларында жартылай өткізгіш субстраттар мен эпитаксиалды технологиялар өте қажет. Олар өнімділігі жоғары, сенімділігі жоғары жартылай өткізгіш құрылғыларды өндіру үшін берік негіз береді. Технология алға ж......
Ары қарай оқу
Алғашқы 6 дюймдік галлий оксиді субстратты индустрияландыру компаниясы
Жақында біздің компания 6 дюймдік галлий оксиді монокристалды субстратты дайындау технологиясын игерген алғашқы отандық индустрияланған компания болып, құю әдісін қолдана отырып, 6 дюймдік Галлий оксиді монокристалын сәтті жасағанын хабарлады.
Ары қарай оқу
Жылу өрісінің оқшаулағыш материалы
Монокристалды кремнийдің өсу процесі негізінен жылу ортасының сапасы кристалл сапасы мен өсу тиімділігіне айтарлықтай әсер ететін жылу өрісінде жүреді. Жылу өрісінің дизайны температура градиенттерін және пеш камерасындағы газ ағынының динамикасын қалыптастыруда шешуші рөл атқарады. Сонымен қатар, ж......
Ары қарай оқу
