Жартылай өткізгіш өндірісінде ультрадыбыстық тазалауды неге пайдалану керек?

Чиптердің, қабықтардың ластануы,субстраттар, және т.б. таза бөлмелер, байланыс материалдары, технологиялық жабдық, персоналды енгізу және өндіріс процесінің өзі сияқты факторлардан туындауы мүмкін. Вафельді тазалау кезінде бөлшектерді жою үшін әдетте ультрадыбыстық тазалау және мегадыбыстық тазалау қолданыладывафлибеті.

Ультрадыбыстық тазалау материалдар мен беттерді тазалау үшін жоғары жиілікті діріл толқындарын (әдетте 20 кГц-тен жоғары) пайдаланатын процесс. Ультрадыбыстық тазалау тазалау сұйықтығында «кавитацияны» тудырады, яғни тазалау сұйықтығында «көпіршіктердің» пайда болуы мен жарылуы. «Кавитация» тазаланатын объектінің бетіндегі жарылу сәтіне жеткенде, ол 1000 атмосферадан әлдеқайда асатын әсер ету күшін тудырады, бұл нысанның бетіндегі кір мен саңылаулардағы кірдің соғылуына, жарылуына және қабығынан кетуіне әкеледі. өшіріңіз, сонда нысан тазаланады. Бұл соққы толқындары бетіндегі кір, май, май және басқа да қалдықтар сияқты ластаушы заттарды тиімді кетіретін скрабтық әсер береді.

Кавитация ультрадыбыстық таралу кезінде сұйық ортаның үздіксіз қысылуына және сирек болуына байланысты көпіршіктердің пайда болуын, өсуін, тербелісін немесе жарылуын білдіреді.

Ультрадыбыстық тазалау технологиясы негізінен көпіршіктерді қалыптастыру үшін сұйықтықтағы төмен жиілікті және жоғары жиілікті дірілдерді пайдаланады, осылайша «кавитация әсерін тудырады.

Semicorex жоғары сапалы CVD ұсынадыSiC/TaCвафельді өңдеуге арналған қаптама бөлшектері. Егер сізде қандай да бір сұрақтарыңыз болса немесе қосымша мәліметтер қажет болса, бізбен байланысудан тартынбаңыз.

Байланыс телефоны +86-13567891907

Электрондық пошта: sales@semicorex.com